上海自仪四厂半导体处理设备的热解决方案

    上海自动化仪表四厂的核心技术和先进的热解决方案提供了优越的性能，使我们的客户在他们的行业中具有优势。这里我们将重点讨论半导体处理设备的热解决方案。未来的问题将着眼于分析仪器、食品服务设备、医疗器械、塑料和加工工业的热解决方案。

 

    半导体加工-精密热管理与控制

 

    半导体器件的制造需要多种光刻、沉积和蚀刻步骤。过程温度控制是成功生产设备及其性能指标的关键。这适用于所有的半导体器件，特别是存储器器件和其他集成电路(集成电路)，其性能依赖于存储器容量和处理速度。新一代半导体器件正变得越来越小，越来越复杂。随后，每一代新一代的半导体器件都需要更创新和精确的温度控制。

 

    创新基座加热器技术

 

    在20世纪90年代早期，为半导体oem开发热解决方案的第一次经验是，在化学气相沉积、光蚀刻、蚀刻和晶片测试设备上的铸铝基型加热器的发展。早期的100和150毫米晶片处理的应用是杜雷克斯持续热研究和发展的基础。上海自动化仪表四厂作为一种核心能力，在设计和制造基于金属的底座加热器的现场真空应用中，成为首选的热液解决方案供应商。随着工业发展到300mm的制造设备和尺寸线宽度和间距减少，上海自动化仪表四厂的创新解决方案仍在继续。

 

    上海自动化仪表四厂热能工程，创新和新技术

 

    1965年，英特尔公司(Intel Corporation)和仙童半导体(Fairchild Semiconductor)联合创始人戈登·e·摩尔(Gordon e. Moore)观察到，每一个集成电路的晶体管数量每两年就会增加一倍。这一观察结果被称为摩尔定律，也是半导体技术路线图的指导方针之一，至今仍然有效。翻倍很容易说，但它也带来了许多技术上的挑战和新的发展。

 

    与此同时，上海自动化仪表四厂面临着发展下一代热解决方案的挑战。最近，上海自动化仪表四厂开发了与下一代半导体器件性能、制造和成本要求相一致的新核心热技术。这些技术真正代表了对老式加热器和温度控制技术的改进。

 

    光环?和前哨?气体,减轻热解决方案

 

    上海自动化仪表四厂的光晕温度控制器和前哨泡沫绝缘硅橡胶加热解决方案，旨在优化半导体真空消减系统的性能。

 

    光环温度控制器

 

    光环?是一个专利申请中集成控制器,减少热力系统的复杂性和成本比传统的解决方案。组合在一个控制器是多个传感器输入，包括过程温度，极限温度，和电流传感，允许监测多个加热器并联。设计用于偏远地区的维修人员不容易使用的，光晕包括一个提供系统健康的视觉指示的灯杆。其他功能包括Modbus rs - 485通信，数字输入/输出，hi /低报警输出，以及ramp /浸泡温度概要。

 

    哨兵泵线加热器

 

    哨兵加热器和绝缘SystemsDurex行业开发了新哨兵?先进的加热技术,因为半导体设备行业工程师需要热解决方案,满足下一代制造工艺规范,同时减少热力系统成本。前哨泵系列的加热器有1.0、1.5、2.0、4.0和6.0英寸的直段、肘、t、减速机和法兰。加热器也可以很容易地设计成阀门、调节器和其他气体输送和泵管路部件的尺寸。

 

    氮化铝(AlN)加热技术

 

    多层AlN制冷机技术超纯高性能先进陶瓷材料是加工下一代半导体器件的关键。上海自动化仪表四厂认识到开发一种可以补充AlN的2015物理特性的加热技术的好处。热膨胀系数、热传递系数、硬度和对大多数化学物质的阻力，使AlN成为原位真空和其他半导体应用的首选材料。

 

    其中一个例子是杜雷克斯公司开发了一种基于铝氮化铝(AlN)陶瓷加热技术的新型制冷机技术，其中嵌入了钨RTD传感器。该专利即将达到极限陶瓷冷水/加热器的能力:

 

    从100年到450°C加热@每秒200°C

 

    从450年到100°C冷却@每秒100°C

 

    这一性能是基于上海自动化仪表四厂的多层单片陶瓷技术，它可以包括加热器、冷却微流体、RTD传感器、地面层和其他层。AlN的高导热率和低温膨胀特性使其快速反应。在半导体设备和分析仪器中，快速加热/冷冻机的应用很普遍。